[文章导读] 等离子化学气相沉积设备技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术

      等离子化学气相沉积设备（点击了解详情），是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子化学气相沉积设备技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激活并实现化学气相沉积的技术。等离子化学气相沉积设备与传统化学气相沉积技术的区别在于等离子体含有大量的高能量电子，这些电子可以提供等离子化学气相沉积设备过程中所需要的激活能，从而改变了反应体系的能量供给方式。

由于等离子体中的电子温度高达10000K，电子与气相分子的碰撞可以促进反应气体分子的化学键断裂和重新组合，生成活性更高的化学基团，同时整个反应体系却保持较低的温度。这一特点使得原来需要在高温下进行的化学气相沉积过程得以在低温下进行。

      （北京欧倍尔真空等离子）

      等离子化学气相沉积设备技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于等离子化学气相沉积设备技术是通过应气体放电来制备薄膜的，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。更多有关于等离子化学气相沉积设备相关知识，请联系等离子化学气相沉积设备厂商---北京欧倍尔公司（www.bjobr.com）。